Instituto de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología Universidad Politécnica de Madrid

TRABAJO DE TECNOLOGÍA
MUESTRAS:	SOLICITANTE: CENTRO:
ESTRUCTURA:	PROYECTO:
RESPONSABLE:	URGENTE

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CORTE:
LIMPIEZA:
LITOGRAFÍA:
Máscara:
Resina:
LITOGRAFIA E-BEAM:
Comentarios:     

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METALIZACION:
LIMPIEZA:
TÉCNICA: JOULE E-BEAM SPUTTERING

Metal 1:	Espesor:
Metal 2:	Espesor:
Metal 3:	Espesor:
Metal 4:	Espesor:

Comentarios:     

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ATAQUE:

RIE	Potencia:	Gases:	Tiempo/espesor:
HÚMEDO	Atacante:		Tiempo/espesor:

Comentarios:     

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DEPÓSITO DE AISLANTE:

Aislante:

Espesor:

Comentarios:     

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ALEADO

CONVENCIONAL (horno azul) Tiempo:

Gases:

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RTA

Tiempo/Rampa:

Gases:

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SOLDADURA

Tipo de Hilo:

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ENCAPSULADO

Tipo de Holder:

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PULIDO

nº de lija final:

Espesor: